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TAN, I. H.; UEDA, M.; DALLAQUA, R. S.; ROSSI, J. O.; BELOTO, A. F.; DEMARQUETTE, N. R.; GENGEMBRE, L. Aluminum implantation in Kapton (R) for space applications: Magnetic field effects on implantation in vacuum arcs. Japanese Journal of Applied Physics, v. 44, n. 7A, p. 5211-5215, July 2005. DOI: <10.1143/JJAP.44.5211>. Disponível em: <http://doi.org/10.1143/JJAP.44.5211>.
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... como proposto por Tan et al. (2005).
... pode ser encontrada na literatura (TAN et al., 2005).